अक्रिय फ़्यूज्ड सिलिका पाउडर का उत्पादन 2000 डिग्री से ऊपर के तापमान पर एक इलेक्ट्रिक आर्क भट्टी में उच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज रेत को पिघलाकर किया जाता है, इसके बाद पानी को बुझाने, कुचलने, पीसने और वर्गीकृत करके एक अनाकार सिलिकॉन डाइऑक्साइड पाउडर बनाया जाता है। क्रिस्टलीय क्वार्ट्ज से ग्राउंड किए गए साधारण सिलिका पाउडर की तुलना में मूलभूत अंतर इसकी आंतरिक संरचना में निहित है: यह एक क्रमबद्ध क्रिस्टलीय संरचना से एक अव्यवस्थित अनाकार (ग्लासी) संरचना में बदल जाता है। यह संरचनात्मक परिवर्तन गुणों का अनूठा संयोजन लाता है।
सबसे पहले, सबसे प्रमुख लाभ थर्मल विस्तार का बेहद कम गुणांक है। फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज़ का थर्मल विस्तार गुणांक सामान्य क्रिस्टलीय क्वार्ट्ज़ का केवल एक -बीसवां है, या इससे भी कम, मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन के बहुत करीब है। यह इनर्ट फ्यूज्ड सिलिका पाउडर को इलेक्ट्रॉनिक पैकेजिंग सामग्री के लिए एक आदर्श भराव बनाता है, जो तापमान परिवर्तन के कारण थर्मल तनाव के कारण सटीक अर्धचालक चिप्स को होने वाले नुकसान को प्रभावी ढंग से रोकता है। दूसरे, इसमें उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता और उच्च तापमान प्रतिरोध है, साथ ही 1000 डिग्री तक का दीर्घकालिक सेवा तापमान भी है। तीसरा, इसकी रासायनिक शुद्धता अत्यंत उच्च है; उच्च तापमान पर पिघलने के बाद, कई अस्थिर अशुद्धियाँ दूर हो जाती हैं, जिसमें SiO2 सामग्री आमतौर पर 99.9% से अधिक हो जाती है। इसके अतिरिक्त, कम ढांकता हुआ स्थिरांक और अपव्यय कारक के साथ इसका विद्युत इन्सुलेशन प्रदर्शन उत्कृष्ट है। इसलिए, इनर्ट फ्यूज्ड सिलिका पाउडर का व्यापक रूप से उच्च आवृत्ति सीसीएल, बड़े पैमाने पर एकीकृत सर्किट पैकेजिंग, फोटोवोल्टिक ग्लास कवर प्लेट, उच्च वोल्टेज विद्युत इन्सुलेशन घटकों, सटीक ऑप्टिकल उपकरणों और उन्नत दुर्दम्य सामग्री में उपयोग किया जाता है। यह उच्च प्रदर्शन, उच्च विश्वसनीयता वाले इलेक्ट्रॉनिक और इलेक्ट्रिकल उत्पादों के निर्माण के लिए मूलभूत सामग्री है।
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